第 445 章新竹议事

机舱之内，陈启文翻开张伟提前整理好的材料。

文档分成三个部分：离岸调查小组最新线索汇总、ASML过往数年谈判风格文档、自研光刻机项目现阶段的瓶颈清单。

李允西坐在他身侧，把一杯温水轻轻放在小桌板上。

“大姐那边刚刚发来消息，家族内部还在协调行程，暂时没有最终敲定来港岛的准确日期。”李允西开口：

“不过基本可以确定，时间就在最近两周之内，你上次提议的合作，应该就有结果。”

陈启文翻过一页文档，头也没有抬：

“等我们从新竹回去之后，再敲定会面的具体安排。

光刻机谈判筹备，是眼下优先级最高的事情，不能分心。”

一个半小时之后，公务机降落在新竹机场。

启文半导体研发中心，派来接机的两个人已经在出口等侯。

车队负责人赵承安，还有研发中心的行政主管吴佳怡。

一队四辆黑色商务车接上一行人，沿着高速公路，驶向位于新竹科学园区的启文半导体园区。

上午十点十五分，车子驶入园区大门。

整片研发基地占地庞大，十几栋现代化厂房和研发大楼依次排开。

道路两边随处可见穿着工服、胸前挂着工牌的工程师来往穿梭。

陈启文没有先去预留的休息室，一行人直接去往，位于三号研发楼顶层的封闭式会议室。

会议室空间宽敞，遮光百叶半放，长条会议桌两侧已经坐满参会人员。

林本健坐在主位一侧，一身白衬衫，眼下带着淡淡的黑眼圈。

显然最近一段时间长期泡在项目当中。

启文半导体专利法务部总监何绍峰、光刻机项目的首席工程师黄振邦早早到场。

还有

他前天晚上还在瑞士，顺着离岸公司注册地的线索走访当地的律所。

凌晨搭乘航班飞回亚洲，第一时间赶到新竹参会。

见到陈启文进门，所有人一并起身。

“坐，不用客套。”

陈启文摆了摆手，走到长桌一头的主位坐下。

李允西在侧边的记录席位就座，张伟把一叠空白记事本、签字笔分发到每个人面前。

陈启文目光缓缓扫过在场所有人：

“ASML正式向我们发出高层会谈邀请，两周之后在瑞士进行谈判。

今天我们把所有人凑在这里，内核目标只有一个。

敲定一整套完整的谈判方案，把底牌、筹码、底线、备选路径全部梳理清楚。

麦克，你先讲离岸中介那条线最新的调查情况。”

“过去一周，调查组沿着开曼以及瑞士的几家壳公司展开穿透。

先说结论：我们暂时还没有拿到完整、闭环的证据链条。

整件事情仍然处在进行阶段，很多疑点没有解开。”

他拿起桌上一份打印版的线索图谱，推到桌子中间。

图谱上密密麻麻标注着，各家离岸公司的注册人、关联地址，散布在网络上放出的消息记录。

“一共有三家壳公司，在行业圈子四处散播消息。

对外宣称可以绕开正式商业渠道，向第三方拿到浸润式光刻机设备。

这几家企业全部使用匿名代持注册，表层身份没有任何追查价值。

调查组深挖之后，并没有找到真实可落地的设备交易案例。

更多是口头造势，在试探各家半导体企业的心理预期。”

会议室里面安静下来。

林本健皱起眉头：

“放出这种风声，目的是什么？背后是谁在推动？”

“这就是现在最大的疑问。”

“调查组梳理出三种可能性。

第一种，ASML内部部分强硬派系，故意放出烟雾舆论。

借第三方的口制造市场焦虑，以此抬高正式谈判桌上的要价。

刺探我们对于先进设备的渴求程度。

第二种，欧美产业游说团体在背后推动。

刻意制造灰色交易传闻，后续可以拿来当做借口，在贸易层面炮制针对我们的限制说辞。

第三种，商业情报机构放出的噪音，用来搅动半导体行业，向各家企业兜售情报服务。

到目前为止，没有任何一条线索能够实锤根源。

我们没有发现真实完成的整机走私交易案例，所谓的渠道更多停留在口头传言。

我的建议是，调查组继续溯源，追查消息扩散的源头。

但是我们绝对不能主动接触，任何一家离岸机构。

一旦我们主动搭话，对方立刻就能够判断出我们的迫切程度，谈判的主动权就不在我们手上了。”

陈启文没有马上开口，转头看向半导体法务何绍峰。

何绍峰会意，立刻从法务角度分析风险：

“陈总，退一步讲，就算真的存在这种渠道，我们也绝对不能碰。

我们手握浸润式基础专利，正规渠道的设备采购、专利授权全部光明正大。

灰色交易一旦曝光，很容易被对方抓住把柄，在欧洲发起商业调查，专利授权也会遭受连带冲击，得不偿失。

我甚至猜测，这背后很可能本身就是阿斯麦自己放出来。

想诱惑我们上当，摆脱我们在浸润式光刻机上的专利掌控。”

陈启文思索片刻之后做出决定：

“麦克，继续加派人手，欧洲那边再增派两名调查专员。

重点追查消息散播的源头，每周更新一次线索简报。

这条离岸线索，只限于这间会议室当中的几个人知情，消息严格保密。

不要去妄想灰色途径，我们也用不上。

我们所有博弈都放在台面之上。”

“明白。”

话题随即转向，ASML瑞士谈判方案的内部辩论。

林本健率先开口，站在技术负责人的角度抛出第一套方案：

“我的立场偏向强硬路线。

我们手里握着浸润式光刻整套基础专利，这是最大的筹码。

ASML想要继续生产新一代浸润式光刻机，绕不开我们的专利授权。

如果瑞士谈判，对方开出来的供货条件过于苛刻。

比如说设备数量有限、交付周期拉长、附加一堆限制性条款。

那我们就正式激活和尼康、佳能两条路线的专利授权谈判。

我们把浸润式专利授权给日系设备厂商。

扶持他们快速推进浸润式机型的研发制造，形成第二条设备供应链。

只要日系厂商，能够成功量产浸润式光刻机，ASML一家独大的局面立刻就会被打破。

到时候主动权完全掌握在我们手里。”